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等離子光解廢氣除臭凈化器
等離子光解廢氣除臭凈化器,綜合采用了等離子廢氣凈化器和紫外光觸媒除臭廢氣凈化器兩種設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)組合而成,利用等離子分解技術(shù)和UV紫外光解技術(shù)結(jié)合,對廢氣和臭氣進(jìn)行 協(xié)同凈化處理:有機(jī)廢氣和惡臭氣體進(jìn)入集成設(shè)備后,經(jīng)過UV紫外光束區(qū)時,被紫外光波高能 率地照射,瞬間產(chǎn)生光解反應(yīng);經(jīng)過等離子體電場時,在納秒級時間范圍內(nèi),產(chǎn)生裂變分解反應(yīng);如此協(xié)同 地產(chǎn)生一系光解和分解反應(yīng),經(jīng)過多級凈化后從而達(dá)標(biāo)排放。
等離子分解區(qū)
等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài),采用脈沖高頻高壓等離子體電源,利用雙介質(zhì)齒板放電北裝置,以 放電形式產(chǎn)生等離子體,在毫秒級的時間內(nèi),把空氣和廢氣分子擊穿,發(fā)生一系列分化裂解反應(yīng),產(chǎn)生高濃度、高強(qiáng)度、高能量的各種活性自由基、電子、離子、臭氧、原子氧、生態(tài)氧等,在納秒級的時間內(nèi),瞬間對廢氣和臭氧分子進(jìn)行氧化還原反應(yīng);活性自由基可以有效地破壞各種病毒、細(xì)菌中的核酸,蛋白質(zhì),使其不能進(jìn)行正常的代謝和生物合成,從而致其死亡;而生態(tài)氧能迅速將有機(jī)廢氣分子異味氣體分解可還原為低分子無害物質(zhì);另外,借助等離子體中的離子與物體的聚合吸附作用,可以對小至亞微米級的細(xì)微有機(jī)廢氣顆粒物進(jìn)行有效的吸附沉降處理。
放電過程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。
Uv紫外線光解區(qū)
一、利用 制的高能臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,改變惡臭氣體的分子鏈結(jié)構(gòu),使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,如CO2、H2O等。
二、利用高能臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合,進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。
UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化作用,對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。
三、惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入本凈化設(shè)備后,凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通過排風(fēng)管道排出室外。
四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵,破壞細(xì)菌的核酸(DNA),再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng), 達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。
產(chǎn)品性能綜述
一、 除惡臭:能 去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味,脫臭效率可達(dá)99.9%以上,脫臭效果大大超過 1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)。
二、無需添加任何物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力,使惡臭氣體通本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化,無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
三、適應(yīng)性強(qiáng):可適應(yīng)高濃度,大氣量,不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理,可每天24小時連續(xù)工作,運(yùn)行穩(wěn)定 。
四、運(yùn)行成本低:本設(shè)備無任何機(jī)械動作,無噪音,無需專人管理和日常維護(hù),只需作定期檢查,本設(shè)備能耗低,(每處理1000立方米/小時,僅耗電約0.1度電能),設(shè)備風(fēng)阻極低<30pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動力的能耗。
五、無需預(yù)處理:惡臭氣體無需進(jìn)行 殊的預(yù)處理,如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃-65℃之間,濕度在40%-95%之間均可正常工作。